WET Clean Equipment (IPMS-CNT08.1) in Dresden

Ausführung:

Dresden

Sachsen

Frist:

13.03.2025 10:00 Uhr

Art der Leistung:

Gegenstand der Ausschreibung ist eine Anlage zum Reinigen und Nassätzen von Wafern mit einem Durchmesser von 300 mm mit Chemikalien auf Flüssigbasis im Single-Wafer-Modus. Die Anlage kann mindestens zwei hardwaremäßig getrennte Protokollzonen gleichzeitig bearbeiten. Die Prozessmedien umfassen dHF, SC1, SC2, dHCl, O3DIW, SPM, Königswasser, AOM, FOM.

1 WET Clean Equipment: Single Wafer Clean (SWC) Tool

Reinigen und Nassätzen von Wafern mit 300 mm Durchmesser

Chemikalien auf Flüssigbasis

Mindestens zwei Protokollzonen

Optional: Einsparung/Recycling von Heiß-DIW-Abwasserwärme

Optional: Aqua regia Verdünnungsanlage

Optional: Online-Rezepturverwaltung

Optional: Quelleninspektion

Optional: Gewährleistungsverlängerung

Optional: Energieverbrauchserfassungssystem

WET Clean Equipment

Wafer Reinigung

Nassätzen

Single-Wafer-Modus

Prozessmedien

Einsparung

Recycling

Verdünnungsanlage

Rezepturverwaltung

Quelleninspektion

Gewährleistungsverlängerung

Energieverbrauchserfassung

Unterlagen