Gerät PVD-Sputter-Cluster für dielektrische Materialien in Duisburg

Ausführung:

Duisburg

Nordrhein-Westfalen

Frist:

13.05.2025 14:00 Uhr

Art der Leistung:

1 Stück PVD-Sputter-Cluster für dielektrische Materialien Quasi-monolithisch integrierte Chiplets (IMS-01), das eine hohe Reinheit und Gleichmäßigkeit der Schichten für die Chiplet-Technologie sicherstellt. Die Abscheidung erfolgt durch physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) für 200-mm-Wafer. Eine F&E-Kammer für transparente Leiter oder Piezoelektrika ist ebenfalls erforderlich.

1 Stück PVD-Sputter-Cluster

Abscheidung von dielektrischen Schichten wie SiO2, TiO2, Si3N4, AlN

Durchsatz Wafer/h bei verschiedenen Materialien und Dicken

Softwarekonfiguration und Systemdokumentation

PVD-Sputter-Cluster

dielektrische Materialien

Quasi-monolithische Chiplets

physikalische Gasphasenabscheidung

optische Schichten

Wafer-Einspannung

Reinheit

Gleichmäßigkeit

F&E-Kammer

Software-Support

Unterlagen