Etch Cluster (ISIT05.1) - Itzehoe

1 Stück Etch Cluster zur Verbesserung der Fertigungsqualität von MEMS-Bauteilen. Der Auftrag umfasst die Beschaffung eines Trockenätzers. Optionale Prozessgase: 2 CHF3, CF4, SF6. Prozessansätze für das Ätzen von Schichtstapeln aus Mo-AlScN und Pt-AlScN in einer Sequenz. Abkühlkammer für das sichere Zurückladen auf den Wafer-Träger. Systemmontage mit veränderbarer Position der Kammer.