Vergabeverfahren zur Lieferung eines Ionenstrahlschreibers

<div class="h1">Titel</div> <div class="pre">Vergabeverfahren zur Lieferung eines Ionenstrahlschreibers</div> <div class="h1">Beschreibung</div> <div class="pre">Beschafft werden soll ein focused ion beam (FIB) system, welches sowohl für Miling, Implantation wie auch für Lithographie Prozesse benutzt werden kann. Für wissenschaftliche Zwecke soll das Gerät Lithographie Prozesse mit sowohl Au, Ge und Si Ionen ausführen können. Fortgeschrittene, automatisierte Lithographie soll das Schreiben komplexer Designs ermöglichen und Strahlstabilität über Nacht muss gewährleistet sein. Das Gerät soll von einer einzigen Software gesteuert werden können, wobei sowohl eine Windows-kompatible GUI wie auch eine Python API verfügbar stehen soll. Zum Auftrag gehören neben dem Gerät ein Raum-Gutachten, Installation und Abnahme des Systems vor Ort. Mindestens 5 Tage Training vor Ort müssen ermöglicht werden.</div> <div class="h1">Interne Kennung</div> <div class="pre">Uni-HD.2025.934_Ionenstrahlschreiber_KIP</div>