Universität zu Köln - Mehrkammer-Beschichtungsanlage

<div class="h1">Titel</div> <div class="pre">Universität zu Köln - Mehrkammer-Beschichtungsanlage</div> <div class="h1">Beschreibung</div> <div class="pre">Beschaffung einer Mehrkammer-Beschichtungsanlage. Mit der zu beschaffenden Anlage sollen Substrate im Rahmen der Mikrofabrikation mit Metallen beschichtet werden. Diese Substrate sind typischerweise mit nanostrukturierten Photolacken versehen und der Prozess dient der Herstellung von Prototypen und künstlichen Hybridstrukturen. Zur Herstellung dieser Hybridstrukturen müssen Ionenätzen und unmittelbare Deposition von Metallen sowie Supraleitern realisierbar sein. Unter Ausnutzung der verschiedenen Charakteristika müssen Beschichtungen via Magnetronsputtern und Elektronenstrahlverdampfen in Kombination mit reaktivem Ionenätzen sowie Argon-Ionen-Sputtern, realisiert werden können.</div> <div class="h1">Interne Kennung</div> <div class="pre">2025_64_0151</div>