maskenloses UV-Direktlithographie-System

<div class="h1">Titel</div> <div class="pre">maskenloses UV-Direktlithographie-System</div> <div class="h1">Beschreibung</div> <div class="pre">Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2.</div> <div class="h1">Interne Kennung</div> <div class="pre">EU-OV/2026-91</div>