Ion Mill chamber with central handling system and 2 PVD chambers (ENAS-01.1) - PR880932-3340-P

<div class="h1">Titel</div> <div class="pre">Ion Mill chamber with central handling system and 2 PVD chambers (ENAS-01.1) - PR880932-3340-P</div> <div class="h1">Beschreibung</div> <div class="pre">1x Waferbearbeitungs-Anlage mit zentralem Handlingsystem, 1 Kammer für Ionenstrahlätzen und 1 PVD -Kammer zur in-situ-Passievierung und Elektrodenabscheidung beschafft. Die Anlage soll 200 mm Wafer bearbeiten. Die Ionenstrahlätzkammer muss für die Strukturierung von magnetischen Multischichtstapeln (GMR, TMR) geeignet sein. Weiterhin muss diese Kammer mit einem Optischen Emissionsspektrometer (OES) ausgerüstet sein für die Endpunkterkennung. Die PVD-Kammer wird für Abscheidung von SiN-Passivierungsschichten auf den GMR/TME-Strukturen direkt nach der Strukturierung ohne Vakuumunterbrechung und zur Abscheidung von Elektrodensystemen aus Edelmetallen verwendet. Optionale Merkmale: - Ersatzsatz von Kammerinnenteilen (Abschirmungen / Shutter), die aufgrund von Beschichtung / Partikelgenerierung zu reinigen sind: Auflistung der benötigten Teile pro Prozesskammer; Angabe der Sätze pro Kammer als Einzelpositionen im Angebot - weitere Substratmaterialien: wenn möglich auch Quartz</div> <div class="h1">Interne Kennung</div> <div class="pre">LOT-0000</div>