Anlage Abscheidung organischer Schichten für Nanotechnologie und Mikrosystemtechnik

<div class="h1">Titel</div> <div class="pre">Anlage Abscheidung organischer Schichten für Nanotechnologie und Mikrosystemtechnik</div> <div class="h1">Beschreibung</div> <div class="pre">Anlage zur physikalischen Gasphasenabscheidung von organischen Halbleitern und Metallen mit Einbindung in ein bestehendes Gloveboxsystem, Breite der Aufstellfläche incl. Bestandsmodul (GB1000 der Firma Sylatec mit Gasreinigung) und seitlicher Servicebereiche höchstens 620cm, Aufbau und Betrieb bei einer Deckenhöhe von 290cm (ohne Lochboden gerechnet).</div> <div class="h1">Interne Kennung</div> <div class="pre">OV 01-26</div>